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  • OTF-1200X-4-RTP-SL可滑動(dòng)RTP爐 OTF-1200X-4-RTP-SL

    可滑動(dòng)RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻,可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。

    更新日期:2016-04-12
    型號(hào):OTF-1200X-4-RTP-SL
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-80SL1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL

    1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對(duì)滑軌,可手動(dòng)進(jìn)行爐體移動(dòng),Z高工作溫度達(dá)1200°C,加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/s。為獲得Z快加熱,可預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度,然后移動(dòng)爐子到樣品位置;為獲得Z快冷卻,可在樣品加熱后移動(dòng)爐子至另一端,本機(jī)是低成本進(jìn)行快速熱處理的理想設(shè)備。

    更新日期:2016-04-12
    型號(hào):OTF-1200X-80SL
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-C4LV1200℃雙管滑動(dòng)式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV

    1200℃雙管滑動(dòng)式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)的,特別是應(yīng)用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

    更新日期:2016-04-12
    型號(hào):OTF-1200X-4-C4LV
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-NW生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW

    生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐,專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì),基片Z大3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器,可對(duì)輸入的氣體、液體、固體進(jìn)行預(yù)加熱后進(jìn)入 CVD 爐進(jìn)行納米線的生長(zhǎng)。其可滑動(dòng)的樣品架使操作更為簡(jiǎn)單。

    更新日期:2016-03-22
    型號(hào):OTF-1200X-4-NW
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-HVHP-80800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80

    800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐,爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成,兩端配有法蘭和閥門,專為在105 PSI高壓下使用,可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下,處理特殊的化合物。

    更新日期:2016-04-12
    型號(hào):OTF-1200X-HVHP-80
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-II-HVHP-80800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80

    800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80是高溫高壓管式爐,爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成,兩端配有法蘭和閥門,專為在105 PSI高壓下使用,可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下,處理特殊的化合物。本機(jī)采用PID方式進(jìn)行控溫,每個(gè)溫區(qū)可獨(dú)立控制。

    更新日期:2016-04-12
    型號(hào):OTF-1200X-II-HVHP-80
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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