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HVMSS-SPC-2 2英寸高真空磁控濺射頭

簡要描述:2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2可安裝直徑為2“的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性??膳cDC或RF電源配合使用。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2018-11-05
  • 訪  問  量:1484

詳細(xì)介紹

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       2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,該磁控濺射頭可安裝直徑為2"的靶材,適用靶材種類較廣,如金屬靶材(如金、銀、銅等材料)、絕緣靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。該磁控濺射頭配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。該磁控濺射頭可與DC或RF電源配合使用來濺射不同種類的樣品。

產(chǎn)品型號

  2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2

主要特點

  1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。

  2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體,以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布。

  3、磁體表面涂有保護(hù)層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命。

  4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配。

  5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭,便于操作。

  6、靶材更換較為簡單,無需調(diào)整濺射頭的高度。

技術(shù)參數(shù)

  1、陽極護(hù)罩直徑:Φ3.5"

  2、所用靶材:直徑2"(50.8mm),非磁性靶zui大厚度1/4",磁性靶zui大厚度1/16"      

  3、磁鐵:NdFeB稀土永磁體

  4、靶材利用率:30%

  5、所需功率:DCzui大1000W,RFzui大500W

  6、濺射電流:zui大3A

  7、濺射電壓:100V-1000V

  8、濺射時腔體真空度:5mtorr-100mtorr

  9、濺射均勻性曲線:

                 

  10、水冷卻:水管外徑0.25",流速0.8GPM,進(jìn)水溫度<20℃                    

產(chǎn)品規(guī)格

         

可選配件

  1、循環(huán)水冷機(jī),流量為16L/min,水箱容積為6L。

  2、同時購買300W射頻發(fā)射器和2"磁控濺射頭時,本司贈送1個高真空快速接頭。接頭內(nèi)徑為0.75",可將濺射

    頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝孔直徑為1",真空腔體的壁厚不得大于1"。

         

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