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OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

簡要描述:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVD或CSS法制作薄膜;其爐管外徑為11″,爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片;加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體頂端和底部,升溫速率高達(dá)20℃/s ;溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制,控溫精度為±1℃,并且儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2018-11-05
  • 訪  問  量:1866

詳細(xì)介紹

價(jià)格區(qū)間10萬-30萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)

    OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVDCSS法制作薄膜;其爐管外徑為11″,爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片;OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體頂端和底部,升溫速率高達(dá)20/s ,可迅速使?fàn)t腔內(nèi)溫度升高冷卻速率:>10℃/s,可在鍍膜后使樣品快速降溫;溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制,控溫精度為±1,并且儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

產(chǎn)品名稱

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

產(chǎn)品型號(hào)

OTF-1200X-RTP-II

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz(20A空氣開關(guān)),必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接

       頭)

4、工作臺(tái):設(shè)備為落地式,占地面積1m2以上

5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點(diǎn)

1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上

2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(Ø76mm×0.5mm),使得樣品基片上的溫度更加均勻。 

33的石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發(fā)料

4、真空法蘭通過兩個(gè)硅膠O型圈進(jìn)行密封,通過機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá)10-2torr,通過分子泵真空度可達(dá)10-5torr。

5、兩個(gè)真空法蘭都可以通過手動(dòng)操作進(jìn)行上下移動(dòng)。

6、一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)安裝在法蘭頂部,可以精 確測量腔內(nèi)真空度。

技術(shù)參數(shù)

1、電源:單相AC208V-240V(需20A的空氣開關(guān))

2真空腔體:高純石英管,外徑280mm,內(nèi)徑275mm,高229mm

3、加熱元件:兩組IR紅外燈管,額定功率800W,總功率1600W

4、熱電偶:S型熱電偶2個(gè),分別安裝于上下法蘭上

5、工作溫度:兩個(gè)加熱區(qū)域單獨(dú)工作的極限溫度≤650℃,兩加熱區(qū)域極限溫差≤350℃

6、加熱速率:>8℃/s

7、冷卻速率:>10℃/s(600℃-100℃)

8、真空法蘭:316不銹鋼制作,配有1個(gè)KF-25接口、2個(gè)1/4軟管接頭

9、真空計(jì):數(shù)字式真空顯示計(jì)

可選配件

1、PC控溫軟件 

2、兩路混氣系統(tǒng)

3、多路浮子混氣系統(tǒng)

4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng)

5、真空泵

6、水冷機(jī)

 

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