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簡要描述：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗
產(chǎn)品型號：廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2021-12-03訪 問 量：1826詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 地礦 |
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。
1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD雙靶磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD | |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設備使用可達到 E-5mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：3個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W（可選） 9、射頻濺射功率：300W/500W（可選） 10、載樣臺：?140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質量的鍍膜。 11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸：500mm×560mm×660mm， | |
| 標準配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)2套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套 4分子泵（德國進口）1臺 5冷水機1臺 6冷卻水管（?6mm）4根 | |
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | |
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