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簡要描述:小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng),主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾,通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。(更新日期2019.1.10)
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
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產品型號 | 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW |
產品特點 | 1、可對粉體材料進行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾,達到粉體表面均勻包覆 2、設備小巧可在手套箱內使用,可處理樣敏感性材料 |
技術參數(shù) | 1、輸入電壓:220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、大電流:150 mA . 4、濺射頭:2英寸角度可調節(jié)濺射頭 5、振動樣品臺: 樣品臺振動頻率可調節(jié):6-33Hz 樣品臺直徑為50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度: ①1.0E-2 Torr(采用機械泵),可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶大真空度可達到< 4.0E-6 Torr(分子泵系統(tǒng)抽時間12小時,腔體進行烘烤) 7、CE認證 |
產品規(guī)格 | 外形尺寸:長460×寬330×高810mm 凈重:20Kg |
注意事項 | 警告: 1、濺射頭與高壓電源相連接,操作時必須佩帶防護手套 2、濺射前必須確保靶材,濺射頭,基片和樣品臺清潔,需要用砂紙和乙醇來清洗,Al或是Ni靶每次使用時都必須清洗和處理 注意:粉末樣品必須干燥和分散 |
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