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4“真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開啟真空管式淬火爐,配有一個密封的液體容器用于樣品淬火,樣品可從Z高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中,可用于研究材料相轉變和微結構性能。
1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2屬于高溫箱式爐,專門針對于材料在氫氣或惰性氣體環(huán)境下進行燒結或退火的使用。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料,鉬絲作為加熱元件,Z高溫度可高達1700℃,冷卻水管嵌入爐體頂部密封板中,能有效地保證工作時的冷卻需要及密封性。因此,本機是需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結材料(如鈦合金、熒光材料等)的Z佳選擇。
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管和真空法蘭,是專為半導體或太陽能電池基片(Z大3″)的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為 50℃/s,設有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現(xiàn)實時控制和溫度曲線顯示。
4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管及高真空系統(tǒng)(機械泵+分子泵), 是專為半導體或太陽能電池基片(Z大3″)的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為50℃/s,設有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現(xiàn)實時控制和溫度曲線顯示。
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻,可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。
雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專為在金屬箔上生長薄膜而設計的,特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機可通過滑動爐體,實現(xiàn)快速加熱和冷卻。